据路透社在12月17日的消息称,国产EUV原型机已经在深圳的某实验室中完成制造,目前已经能成功产生极紫外光,但原型机目前正处于测试阶段,尚未用于芯片制造。
据路透社在12月17日的消息称,国产EUV原型机已经在深圳的某实验室中完成制造,目前已经能成功产生极紫外光,但原型机目前正处于测试阶段,尚未用于芯片制造。
路透社称,根据知情人士透露,这台EUV原型机由ASML前工程师团队进行组装,通过购买的旧款零件进行逆向工程,华为在该项目中扮演了关键协调角色。
知情匿名人士称,目前的计划是通过国产EUV光刻机,能够在2028年量产出可用芯片,考虑到未来面临的技术难度和挑战,2030年实现量产更为现实。

EUV光刻机对于5nm及以下工艺制程的芯片制造十分关键,EUV原型机的问世,标志着国内在芯片制造技术方面取得了重大突破,打破了西方的技术封锁,对国产芯片产业链有着极大帮助。
目前,国产手机厂商在自研SoC芯片使用上的比例较低,华为在芯片工艺上与领先水平存在差距,小米在自研芯片的使用比例较低。但无论是华为还是小米,都表明了国内团队具有一流的芯片设计能力,只要制造工艺跟得上,即可实现自主的产业链支持。
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