据路透社在12月17日的消息称，国产EUV原型机已经在深圳的某实验室中完成制造，目前已经能成功产生极紫外光，但原型机目前正处于测试阶段，尚未用于芯片制造。
据路透社在12月17日的消息称，国产EUV原型机已经在深圳的某实验室中完成制造，目前已经能成功产生极紫外光，但原型机目前正处于测试阶段，尚未用于芯片制造。
路透社称，根据知情人士透露，这台EUV原型机由ASML前工程师团队进行组装，通过购买的旧款零件进行逆向工程，华为在该项目中扮演了关键协调角色。
知情匿名人士称，目前的计划是通过国产EUV光刻机，能够在2028年量产出可用芯片，考虑到未来面临的技术难度和挑战，2030年实现量产更为现实。
EUV光刻机对于5nm及以下工艺制程的芯片制造十分关键，EUV原型机的问世，标志着国内在芯片制造技术方面取得了重大突破，打破了西方的技术封锁，对国产芯片产业链有着极大帮助。
目前，国产手机厂商在自研SoC芯片使用上的比例较低，华为在芯片工艺上与领先水平存在差距，小米在自研芯片的使用比例较低。但无论是华为还是小米，都表明了国内团队具有一流的芯片设计能力，只要制造工艺跟得上，即可实现自主的产业链支持。
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