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苹果新专利革新 Face ID：元件体积更小、成本更低、精度更高

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IT之家 5 月 29 日消息，科技媒体 patentlyapple 昨日（5 月 28 日）发布博文，报道称苹果公司获批一项新专利，涉及下一代 Face ID 技术，从衍射光学元件（DOE）转向更先进的“超表面光学元件”（MOE）。

IT之家援引博文介绍，苹果公司现有 Face ID 依赖衍射光学元件（DOE），生成点状照明图案，用于目标区域的 3D 映射。

苹果新专利革新 Face ID：元件体积更小、成本更低、精度更高

传统结构光投影模组（Structured light projectors）通常需要多个光学元件，包括 DOE 和准直透镜，来分割光束并投射点状图案。尽管这类投影模组已足够小巧，可嵌入智能手机，但仍有进一步缩小的需求。

而专利中提出了超表面光学元件（MOE）设计方案，在单一扁平元件中，集成光束分割与准直功能，不仅能缩小投影模组体积，降低了生产成本，还简化了组装流程，减少了制造误差的影响。

苹果新专利革新 Face ID：元件体积更小、成本更低、精度更高

以上图源：patentlyapple 

新专利还揭示，MOE 技术能同时调整投影模组的光轴倾斜角度，使其与摄像头的视野（FOV）更好地重叠。这种设计确保点状图案覆盖摄像头视野，提升 3D 映射的精准度。此外，设备可通过控制器交替激活点状照明和泛光照明，灵活适应不同场景需求。

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文章来源于互联网:IT之家-苹果新专利革新 Face ID：元件体积更小、成本更低、精度更高

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