快科技10月20日消息,据报道,三星计划加大对极紫外(EUV)光刻设备的投资,购买新一批EUV光刻设备。
其中,存储部门将部署五套专用标准EUV设备,以建立独立生产线,三星位于平泽的晶圆代工厂和存储生产线此前曾共用EUV设备。
同时三星将为晶圆代工部门新增两套最新的High NA EUV设备,三星计划在2025年底和2026年初分别交付一套,用于其2nm制程的全面生产,其中一套将部署在华城厂区,另一套则可能部署在泰勒晶圆厂。
数据显示,一套标准EUV设备的成本约为3000亿韩元(约合人民币15亿元),而一套High NA EUV设备的成本约为5500亿韩元(约合人民币28亿元)。
因此,三星在EUV方面的总支出约为2.6万亿韩元,这也彰显了其在2nm晶圆代工领域的雄心。
High NA EUV光刻机是下一代芯片制造的关键技术,与传统EUV相比,它能提供1.7倍更精细的电路图案和2.9倍更高的晶体管密度,光学精度提升了40%。
这对于生产密度更高、更节能、性能更强大的2nm代工芯片以及先进存储产品(如垂直通道晶体管DRAM和第六代HBM4)至关重要。

文章来源于互联网:凤凰网-三星重金加购两台High NA EUV光刻机!为了2nm拼了
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